Кириллов Даниил Вячеславович

С. 124-135

С. 188-197

Проведено исследование влияния процесса выработки катода торцевого вакуумного дугового испарителя на угловую диаграмму распределения массы испаренного вещества. Измерен профиль покрытия на плоской протяжённой подложке, расположенной перпендикулярно оси испарителя, при различных временах работы и различных выработках катода. По полученным профилям восстановлено угловое распределение распыленного материала. Построено безразмерное нормализованное угловое распределение массы распыленного материала при различных выработках катода и проведено сравнение с распределением плоского точечного источника по закону Ламберта-Кнудсена.

Исследован профиль выработки катода дугового испарителя при различных токах разряда и индукции арочного магнитного поля. Ширина выработки была сопоставлена видимой ширине дорожки движения катодного пятна. Были получены зависимости ширины дорожки движения катодного пятна от тока разряда и индукции арочного магнитного поля.

Был исследован профиль выработки катода дугового испарителя в различных режимах работы: при изменении тока разряда и индукции арочного магнитного поля. Ширина профиля выработки была сопоставлена с шириной дорожки движения катодного пятна. Были получены зависимости ширины дорожки движения катодного пятна от тока разряда и индукции арочного магнитного поля.

Исследовано влияние величины индукции арочного магнитного поля и тока разряда на скорость движения катодных пятен на холодном катоде вакуумно-дугового испарителя в среде инертного и реактивного газов. Получены зависимости скорости движения катодных пятен от величины индукции магнитного поля и тока разряда. Показано, что при увеличении индукции магнитного поля и тока разряда, скорость движения катодных пятен увеличивается. При этом наличие реактивного газа существенного влияния на скорость движения катодных пятен не оказывает.